2. Verfahren nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass die Bestrahlung der oberen Schicht derart gesteuert wird, dass einer von der Elektronen- oder Laserstrahlungsquelle (2) vermittelter Energieeintrag pro Flächenabschnitt auf die obere Schicht in Abhängigkeit des das Temperaturprofil der unmittelbar darunter liegenden Schicht zumindest abschnittsweise charakterisierenden Datensatzes oder in Abhängigkeit der die Temperaturprofile der darunter liegenden Schichten zumindest abschnittsweise charakterisierende Datensätze angepasst wird.